应用于碳化硅（SiC）、蓝宝石（Sapphire）、氮化镓（GaN）、陶瓷、MEMS、光学产品等资料的加工。

  适用范围✦陶瓷盘尺度：Φ305mm、Φ360mm、Φ485mm（可兼容）✦产品尺度：2、4、6寸（可兼容）✦研磨功率：约2um～3um/min（具体视工艺而定）✦清洗功率：约2min/盘（具体视工艺而定）✦清洗液温度：40℃（具体视工艺而定）

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